供应 刻线衍射光栅
“刻线衍射光栅，UV反射式”参数说明型号：Qx-UV-gl规格：50 mm X 50 mm X 9.5商标：一博 包装：硬塑闪耀角：8.6刻线数：300-1200“刻线衍射光栅，UV反射式”详细介绍刻线衍射光栅，UV反射式基本介绍刻线衍射光栅，UV反射式QXKJ提供用于300 nm左右紫外区域的刻线衍射光栅。这些光栅在300 nm闪耀波长下具有相对尖锐的效率峰值，并且由刻线的基底材料生产。刻线衍射光栅，UV反射式性能特点特性· 闪耀波长300 nm
· 在闪耀波长下光栅效率高达60%到80%
· 低鬼影：小于主反射的0.5%
· 反射铝膜
· 钠钙玻璃基底，300到1200刻线/mm
· 使用刻线的基底材料生产刻线衍射光栅，UV反射式技术参数Dimensions (W x H x D)Blaze
WavelengthGrooves/mmBlaze AngleDispersion25 mm x 25 mm x 6 mm300 nm3002° 34'3.33 nm/mrad50 mm x 50 mm x 9.5 mm6005° 9'1.67 nm/mrad12.7 mm x 12.7 mm x 6 mm120010° 22'0.82 nm/mrad刻线衍射光栅，UV反射式使用说明我们提供不同闪耀角的光栅，满足需要重点考虑效率的多种光谱学和分析应用。需要更多信息请点击上方光栅教程标签。我们还提供全息光栅，它们不会产生鬼影效应，但是效率更低。
请注意，这些光栅的反射铝膜是**的，而且没有保护镀膜。但是可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能更好，而MgF2膜提供**保护性；详情请咨询技术支持刻线衍射光栅，UV反射式采购须知注意光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取，而且只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套，以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮气吹扫光栅，其它任何操作都是不允许的。溶剂很可能会损伤光栅表面